1. <track id="cq0u8"><delect id="cq0u8"></delect></track>
    2. <tr id="cq0u8"></tr>
      <acronym id="cq0u8"></acronym>
    3. <tr id="cq0u8"><delect id="cq0u8"><form id="cq0u8"></form></delect></tr>

      <track id="cq0u8"></track>
    4. 一站式超精密研磨拋光解決方案

      多語言

      英文站點

      聯系電話

      010 5165 3168

      聯系郵箱

      grish@grish.com

      獲取免費樣品

      半導體

      國瑞升可以為半導體行業晶圓邊緣拋光,襯底減薄磨拋,窗口片和芯片研磨拋光。

      探索產品

      應用

      關于半導體

      國瑞升優勢

      如何拋光

      如何使用拋光液?

      我們研磨液和拋光液廣泛應用于半導體行業,如碳化硅襯底、藍寶石襯底和InP/GaAs材料。

      拋光

      拋光工藝

      wax-bonding

      上蠟

      polishing

      拋光

      dewax

      清洗

      cmp-polishing

      CMP拋光

      InP/GaAs材料拋光液

      InP/GaAs材料拋光工藝步驟國瑞升產品
      減?。?5-30分鐘)AO 拋光液 + 石英板
      背部拋光(30-40分鐘)CMP 拋光液 + 石英板

      化合物半導體材料砷化鎵(GaAs)和磷化銦(InP)是微電子和光電子的基礎材料,作為第二代半導體材料代表的磷化銦(InP),具有高的電光轉換效率、高的電子遷移率、高的工作溫度、以及強抗射能力的特點,廣泛應用在光通信、高頻毫米波、光電集成電路和外層空間用太陽電池等領域。

      5G 網絡高頻、高速的特性要求前端射頻組件具備在高頻、高功率下更好的性能表現,從而對其半導體材料電子遷移率和工作溫度等物理性能提出了更高的要求。利用InP制造的信號接收機和放大器可以工作在100GHz以上的極高頻率,并且有很寬的帶寬,受外界影響小,穩定性高。因此InP在5G 時代將成為終端設備以及基站設備前端射頻器件的核心半導體材料,迎來更大市場空間。

      國瑞升新的拋光工藝

      國瑞升新的碳化硅襯底拋光工藝

      步驟 國瑞升產品 時間
      雙面研磨(30-60分鐘) 類多晶金剛石研磨液  ≤4小時
      粗拋(30-60分鐘) 納米金剛石研磨液+拋光墊
      超精細拋光(120分鐘) CMP 拋光液 + 拋光墊

      采用國瑞升自產的新型粗拋液和精拋液,雙面研磨后,可直接進行粗拋30-60分鐘、精拋120分鐘,大大縮短了精拋的時間,同時提升了產品表面的加工質量,使加工效率得到有效提升。

      視頻

      在視頻中探索更多內容

      半導體加工研磨視頻

      相關產品

      推薦產品

      新品

      研磨墊

      國瑞升金剛石拋光墊具有獨特的微孔結構,清晰可見,可以提供良好的耐磨性。拋光時,與拋光液一起使用,可保持其良好的性能。常見于高平面度的操作,如晶圓、陶瓷和玻璃。

      研磨液與研磨膏

      多晶金剛石研磨液

      GRISH多晶金剛石研磨液是由多晶金剛石微粉(PCD),配合水、油等液體配制而成的研磨液,可顯著的提高切削力和拋光效率。同時我們可結合客戶需求,提供定制產品、配套研磨工藝和技術支持。

      研磨液與研磨膏

      單晶金剛石研磨液

      GRISH單晶金剛石研磨液是由單晶金剛石微粉(MD),配合水、油等液體配制而成的研磨液,可顯著的提高切削力和拋光效率。同時我們可結合客戶需求,提供定制產品、配套研磨工藝和技術支持。

      研磨微粉

      多晶金剛石微粉

      GRISH爆轟多晶金剛石微粉以爆炸法合成,其顆粒晶體結構與天然的Carbonado極為相似。與單晶金剛石相比,多晶金剛石有更多的晶棱和磨削面,每條晶棱都具有切削能力,因此有很高的去除率。

      研磨液與研磨膏

      類多晶金剛石研磨液

      GRISH類多晶金剛石研磨液是由類多晶金剛石微粉(RCD),配合水、油等液體配制而成的研磨液,可顯著的提高切削力和拋光效率。同時我們可結合客戶需求,提供定制產品、配套研磨工藝和技術支持。

      研磨微粉

      單晶金剛石微粉

      GRISH靜壓單晶金剛石微粉是采用優質金剛石為原料,經過粉碎、分級、整形等工藝處理而成。單晶金剛石具有鋒利的晶棱,硬度高。根據單晶金剛石顆粒強度的不同,將單晶金剛石微粉分為MBD和RVD系列。

      研磨液與研磨膏

      納米金剛石研磨液

      GRISH納米金剛石研磨液是由納米金剛石微粉(DND),配合水、油等液體配制而成的研磨液,可顯著的提高切削力和拋光效率。同時我們可結合客戶需求,提供定制產品、配套研磨工藝和技術支持。

      研磨液與研磨膏

      CMP拋光液

      CMP拋光液是針對不同研磨材料的特性進行獨特的配方設計,拋光過程中,pH值基本保持不變,從而保證拋光速率的穩定,并節約拋光時間。廣泛用于多種材料納米級的化學機械拋光。如:藍寶石材料、硅片、金屬材料、化合物晶體 等的拋光加工。

      研磨液與研磨膏

      半導體拋光液

      GRISH對化合物半導體有相應的拋光工藝和耗材,包括SiC(碳化硅)、AlN(氮化鋁)、GaN(氮化鎵)、GaAs(砷化鎵)、InP(磷化銦)等。

      研磨液與研磨膏

      多效研磨助劑

      GRISH多效研磨助劑是一種高質量的水溶性研磨助劑,主要應用于藍寶石加工過程中B4C雙面研磨制程,可有效降溫、潤滑、防銹和增加磨削力,從而提升B4C的利用率,大大節約研磨成本。

      研磨液與研磨膏

      液態蠟

      液態蠟是本公司研發的適用于藍寶石襯底、碳化硅襯底等第三代半導體材料的加工過程中起粘接作用的臨時粘接劑,也可以用于半導體硅片、光學晶體、金屬材料等的研磨拋光工序。

      研磨液與研磨膏

      去蠟液

      GRISH去蠟清洗液是一種環保型清潔劑,可以很好的去除工件表面的蠟層。主要應用于藍寶石襯底、窗口片、LED芯片加工等領域下蠟后的清洗工序。

      了解更多

      立即咨詢

      聯系國瑞升

        亚洲va久久久噜噜噜久久|野花高清完整版在线观看|色偷偷av男人的天堂京东热|国产偷v国产偷v亚洲高清
          1. <track id="cq0u8"><delect id="cq0u8"></delect></track>
          2. <tr id="cq0u8"></tr>
            <acronym id="cq0u8"></acronym>
          3. <tr id="cq0u8"><delect id="cq0u8"><form id="cq0u8"></form></delect></tr>

            <track id="cq0u8"></track>