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    4. 一站式超精密研磨拋光解決方案

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      陶瓷

      國瑞升可以為硬質陶瓷、氮化鋁基材、氮化硅基材等提供精密研磨拋光耗材及工藝。

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      如何拋光

      如何拋光陶瓷和貴重材料

      國瑞升CMP精拋液,廣泛用于多種材料納米級的化學機械拋光。如: 氮化鋁、氮化硅陶瓷基板等的拋光加工。

      拋光

      拋光工藝

      研磨過程一般包括雙側研磨(30-60分鐘)和超精細拋光(120分鐘)。在不到2.5小時的時間里,你可以得到10-15納米的Ra。

      雙面研磨(30-60分鐘)

      清潔

      超精細拋光(120分鐘)

      氮化鋁/氮化硅散熱襯底研磨液

      氮化鋁/氮化硅散熱襯底拋光方案 步驟 國瑞升產品
      雙面研磨(30-60分鐘) 類多晶研磨液
      超精細拋光(240-480分鐘) 納米金剛石研磨液 + 研磨墊
      CMP 研磨液 + 石英板

      AlN/SiN散熱基板的研磨拋光,采用特殊的粗糙和超細拋光液。通過粗糙和超細拋光工藝,大大減少了研磨時間,同時提高了拋光的質量,幫助客戶提高工作效率。

      國瑞升可以幫助客戶根據要求對基材進行加工,并提供拋光和研磨的全面解決方案。

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      國瑞升研磨液

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